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Soraia Attie Calil Jorge COORDENADOR(A)

Ciências Biológicas

Biotecnologia

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Título do Projeto:obtenção de lnp- mrna-h5 do vírus influenza
Resumo: A emergência do vírus SARS-CoV-2 iniciada ao final de 2019 e a pandemia decorrente pode ser considerada como um ponto de inflexão na tecnologia de mRNA como estratégia vacinal. Seu uso emergencial por conta da pandemia demonstrou o seu potencial de sucesso. Ainda assim, a implantação da tecnologia de mRNA envolve alguns desafios principais como a otimização da sequência de mRNA alvo, a purificação, a encapsulação/formulação que garanta a estabilidade e a entrega desse mRNA ao organismo. Por outro lado, os vírus Influenza são uma causa contínua de preocupação devido ao seu potencial pandêmico e seus efeitos potenciais e devastadores sobre diversos animais humanos ou não. O vírus da gripe aviária (AIV) tem o potencial de evoluir para um vírus de alta patogenicidade, resultando na sua rápida propagação e surtos significativos em aves silvestres e domésticas. Ao longo dos anos, uma grande variedade de novas estratégias tem sido implementada para prevenir a transmissão de AIV em aves. A vacinação ainda é uma abordagem econômica e eficaz para estabelecer proteção imunológica contra infecção viral. Atualmente, algumas vacinas AIV foram licenciadas para produção em larga escala e uso na indústria avícola; no entanto, outros novos tipos de vacinas AIV estão atualmente sob pesquisa e desenvolvimento. Nesse sentido, é importante salientar o papel fundamental que o Instituto Butantan exerce, sendo considerado um dos principais agentes de produção de vacinas no Brasil nos últimos anos. Apesar de ter uma plataforma de produção de vacina contra influenza em ovos embrionados muito produtiva e bem estabelecida, o desenvolvimento de plataformas alternativas, de rápida resposta e independente da produção de ovos pode ser uma boa estratégia de escape e eficiência em uma situação pandêmica. Assim, desenvolver plataforma de vacina baseada em mRNA é urgente para a Instituição e para o país.
Instituição/UF/País: Instituto Butantan - SP - Brasil
Vigência: 13/12/2023-31/12/2026

Stanislav Mochkalev COORDENADOR(A)

Outra

Microeletrônica

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Título do Projeto:litografia por ponta de prova térmica para fabricação de dispositivos fotônicos
Resumo: O projeto tem como principal objetivo o estabelecimento das técnicas de nanofabricação, para uso na área de fotônica. Os dispositivos fabricados serão baseados em metamateriais operando no espectro do visível para aplicações em dispositivos de telecomunicações, e as estruturas serão a base de grafeno 2D e ouro. Entre os desafios que o projeto irá enfrentar, são a qualidade do material grafítico (grafeno ou nanografite) adequada para a sua aplicação e a boa aderência ao substrato. Baseado em testes preliminares, vamos utilizar a técnica de spin-coating e soluções do material grafítico em silicato de sódio (SiNa). O nanografite de alta qualidade será obtido utilizando técnica nova de esfoliação de micrografites através de microfluidização. Este processo está em desenvolvimento pelo grupo com bons resultados, gerando folhas com alto razão de aspecto (comprimento/espessura) e baixa densidade de defeitos. Mais um ponto a ser abordado, é a litografia fina para fabricação dos metamateriais. A lista das técnicas mais utilizadas atualmente, inclui: litografia por feixe de elétrons (e-beam), escrita direta por laser e litografia ótica. As limitações principais residem na necessidade de: (i) fabricação prévia de máscaras e baixa resolução para a litografia ótica, (ii) complexidade do processo (alto vácuo), baixa produtividade e resolução limitada pelos efeitos de proximidade para litografia por e-beam e (iii) baixa resolução para litografia ótica. Portanto, este projeto propõe a utilização da litografia de ponta de prova térmica, realizada pelo equipamento NanoFrazor, recém-instalado no CCSNano-UNICAMP (primeiro equipamento deste tipo na América Latina). Esta técnica consiste em uso de uma ponta nanométrica aquecida até altas temperaturas (~1000C) que vaporiza o resiste localmente, com resolução até 10-20 nm. Não requer fabricação prévia de máscara, e nem de revelação ou ambiente controlado (vácuo), e a resolução deste método se torna mais acurada em comparação às demais.
Instituição/UF/País: Universidade Estadual de Campinas - SP - Brasil
Vigência: 05/12/2023-31/12/2026

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